Presentation 1990

• (In Japanese) Si_1-xGe_x歪薄膜の熱処理による歪の緩和
  矢口裕之, 張保平, 藤田研, 深津晋, 白木靖寛, 伊藤良一
  応用物理学会第51回講演会 (27pT11) (Morioka, Japan)
  September 27, 1990
• (In Japanese) SbによるSi/Ge界面ミキシングの抑制
  藤田研, 深津晋, 矢口裕之, 五十嵐孝行, 張保平, 白木靖寛, 伊藤良一
  応用物理学会第51回講演会 (27pT12) (Morioka, Japan)
  September 27, 1990
• Suppression of Interfacial Mixing in Si/Ge Superlattices by Sb Deposition
  K. Fujita, S. Fukatsu, H. Yaguchi, T. Igarashi, Y. Shiraki and R. Ito
  22nd Conference on Solid State Devices and Materials (LN-D-1) (Sendai, Japan)
  August 1990
• (In Japanese) 原子レベルで平坦なシリコン上の酸化膜形成とその構造
  五十嵐孝行, 高瀬和彦, 服部健雄, 矢口裕之, 藤田研, 深津晋, 白木靖寛
  応用物理学関連講演会 (29pZC15) (Asaka, Japan)
  March 29, 1990