発表 1990
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Si1-xGex歪薄膜の熱処理による歪の緩和
矢口 裕之, 張 保平, 藤田 研, 深津 晋, 白木 靖寛, 伊藤 良一
応用物理学会第51回講演会 (27pT11) (盛岡) 1990. 9. 27
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SbによるSi/Ge界面ミキシングの抑制
藤田 研, 深津 晋, 矢口 裕之, 五十嵐 孝行, 張 保平, 白木 靖寛, 伊藤 良一
応用物理学会第51回講演会 (27pT12) (盛岡) 1990. 9. 27
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Suppression of Interfacial Mixing in Si/Ge Superlattices by Sb Deposition
Ken Fujita, Susumu Fukatsu, Hiroyuki Yaguchi, Takayuki Igarashi, Yasuhiro Shiraki and Ryoichi Ito
22nd Conference on Solid State Devices and Materials (LN-D-1) (Sendai) 1990. 8.
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原子レベルで平坦なシリコン上の酸化膜形成とその構造
五十嵐 孝行, 高瀬 和彦, 服部 健雄, 矢口 裕之, 藤田 研, 深津 晋, 白木 靖寛
第37回応用物理学関係連合講演会 (29pZC15) (朝霞)
1990. 3. 29
